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          鍍膜種類劃分情況

          鍍膜按類型劃分,首先可以分為:干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

          其中干式鍍膜主要有:真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種



          真空蒸發鍍膜可細分為:

          電阻蒸發鍍膜(適用于蒸發低熔點材料,如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等)

          電子束蒸發鍍膜(可蒸發難熔金屬,如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等)

          高頻感應加熱蒸發鍍膜(蒸發速率大,蒸發源溫度穩定,操作簡單,對材料純度要求較寬)

          電弧加熱蒸發鍍膜(特別適用于熔點高,同時具有一定導電性的材料,如石墨;裝置簡單,較廉價,缺點是放電產生的微米級顆粒會影響膜的一致性)

          激光束蒸發鍍膜(可蒸發任何高熔點材料)

          反應蒸發鍍膜(蒸鍍難熔化合物,如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等)

          濺射鍍膜可分為:

          直流二極濺射:僅適用于導電膜

          直流三極濺射:僅適用于導電膜

          直流四極濺射:僅適用于導電膜

          射頻濺射:采用射頻電源,可鍍氧化硅,氧化鋁材料

          對向靶濺射:可提高沉積速率,制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

          離子束(IBS)濺射:利用離子源發出離子

          磁控濺射:

          碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎上,在靶材后面安放了磁鋼,使用弧光發

          電,用于蒸發源。

          真空離子鍍膜可分為:

          陰極電弧離子鍍:提高了沉積速率和膜的質量;還可生成致密均勻,附著力優良的化合物膜

          空心陰極離子鍍:使用空心陰極等離子電子束

          多弧離子鍍

          濕式鍍膜可分四種:

          電鍍

          陽極氧化

          化學鍍

          化學轉化膜處理

          
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